Des fonctionnaires chinois et américains de haut rang, dont l’assistant spécial du président pour la Science et la Technologie et le ministre chinois de la Science et de la Technologie, se sont rencontrés le 7 juillet dernier à Beijing dans le cadre du Fifth US-China Innovation Dialogue.
Cette rencontre avait pour but de renforcer la confiance mutuelle, de réduire les différends et de promouvoir un nouveau modèle de relations entre les deux pays dans divers domaines. Le jour précédent, les experts sino-américains s’étaient réunis pour discuter des recherches actuelles portant sur les meilleurs moyens politiques pour stimuler l’innovation dans les deux pays.
Les points saillants de ce dialogue bilatéral 2014 sur l’innovation sont les suivants :
- les États-Unis et la Chine ont décidé de protéger les droits des inventeurs, conformément à leurs lois et règlements respectifs, et conformément à leur législation nationale;
- les deux pays s’engagent à respecter les règles et les contrats légitimes entre les employeurs et les inventeurs en matière de rémunération;
- ils ont décidé de coopérer dans le développement des technologies en matière d’urbanisation (recherche fondamentale, développement de normes et formation d’un marché dans ce domaine);
- ils ont convenu de désigner un point de contact et d’établir un plan-cadre pour favoriser la collaboration entre les entreprises chinoises et américaines dans le domaine des infrastructures intelligentes;
- enfin, ils s’engagent à donner la priorité à la R-D et à la mise en œuvre de normes communes dans le secteur des véhicules électriques.